梅州手机配件IP电镀价格询问报价「瑞泓科技」

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离子镀

工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材

主要原理是利用气体放电现象，将薄膜材料解离成离子状态，而后沉积于基板上。

离子镀的基本镀膜系统为PVD系统，只是多加入反应性气体，使其与蒸发后的薄膜材料反应，而后沉积在基板上形成化合物，所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同，是基材靶材的化合物。

离子镀基本上包括三个步骤 :

1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;

2. 将气态原子变成离子态,以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子,以达到始之离子化的程度;

3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压,以达到加速离子的能力。

离子镀原理

离子镀的特点如下:

1. 离子镀可在较低温度600度下进行;

2. 附着性良好;

3. 绕射性良好-带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;

4. 沉积速度快,可达1~5um,而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;

5. 加工性及薄膜材料的选择性广,可加工除金属外,陶瓷,玻璃 ,塑胶均可,而薄膜材料的选择也很广泛,金属,合金,化合物皆可。

将活性气体引入到真空镀膜室通过活性气体的原子（分子）与蒸发源中蒸发出来的原子发生化学反应，生成化合物涂层的方法，称为反应蒸镀法。反应即可在气态空间中，也可在基片表面上进行，也可以两者兼有。其中以在基片上进行反应为主。反应的进行通常与反应气体的分压、蒸发温度、蒸发速度以及基片温度等因素有关，所获得的涂层可以是金属合金，也可以是化合物。目前，这种方法已经广泛应用于制备绝缘化合物膜层上。

真空电镀工艺的整个工艺过程都是在高真空状态下在设备腔体内完成，所以通常只要设备设定参数与工艺要求相吻合时通常良品率会很高，但偶有操作不当也会产生，下面介绍几种现场品控的方法以供参考。

（1）目视法

目视法主要是通过观察电镀成品与样件膜层外观来品控产品的方法，虽然简单却又是不可或缺的，不同的膜材在经过真空电镀后会表现出不同的颜色，不同的质感，如铝的亮白、锡的黑灰、铬的q黑、在工艺完成后都会呈现在基材表面。所以当出现电镀成品的膜层外观与样件膜层外观不符时，首先要确定的是膜材是否置放正确，其次是确定工艺参数是否与该工艺相吻合，确定是否有操作不当。

（2）百格法

百格法即用百格刀或美工刀在膜层表面划出大约100个1mm见方的小格然后用胶带粘定后测试膜层与基体附着成度的方法。测定法方如下：

a) 首先在膜层表面用百格刀划出10*10个1mm见方的的网格，网格要穿透膜层。

b) 用相应胶带轻轻附在百格表面，并用手指覆压赶出二者之间气泡，然后静置1分钟，左手握住测试样品，右手食指和拇指捏住胶带一端，以与基材表面90度角的力迅速拉起胶带，反复三次以没有膜层脱落为合格。

（3）电流测定法

电流测定法主要针对于不导电金属和合金膜的测定，通过测定膜层表面电流来检测镀膜产品是否合格。

测定方法是：在膜层表面相距1cm的距离分别放置电流表的两个探头，打开电流表，观察电流表指针的情况。然后根据工艺要求来确定膜层是否合格。此种方法不仅可以检测所镀膜层是否是所需膜层，还可以根据电流情况来判断膜层厚度是否满足工艺要求。